研究構圖單元的整個重疊構成對于該技法在標志設計中應用是十分必要的，重疊可分為以下幾個過程：1、并置：兩個單元水平相對運動，并留有一定的距離，即為并置狀態。并置狀態是構成均衡的主要方法之一(下圖1)。2、鑲嵌：在并置狀態的基礎之上繼續水平相對運動，使中間的距離越來越小并形成一個縫隙時，即為鑲嵌狀態(下圖2)。3、連接：為單元處于鑲嵌與重疊的臨界狀態。即在鑲嵌的基礎之上，如果兩個單元相對運動某一距離，